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OTF-1200X-4-NW 生長納米線的CVD爐

應用范圍： OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長各種納米線而設計，基片最大3英寸. 在法蘭的左側裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱，然后進入 CVD 爐進行納米線的生長, 可滑動的樣品架使操作更為簡單.

產品型號：OTF-1200X-4-NW

上架時間：2019-07-04

安裝尺寸：1200(L)X450(W)X510(H)mm

重量：100kg

A^-A⁺

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OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐，專為生長各種納米線而設計，基片最大3英寸. 在法蘭的左側裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱，然后進入 CVD 爐進行納米線的生長, 可滑動的樣品架使操作更為簡單.

性能指標和基本配置
爐子和預加熱器	● 緊湊型CVD爐是由OTF-1200X-4 單溫區(qū)爐演變而來 : ● 內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層可以提高設備的加熱效率，同時也可以延長儀器的使用壽命 ● 石英管：4.33" O.D x 4.05" I.D x 15" L 最高工作溫度：1100oC ● 右邊帶樣品支架的法蘭是滑動的，方便操作在加熱器和CVD爐之間的法蘭是預加熱氣體的通道，同時也起密封作用。 ● 在爐子左側的小加熱器是對輸入CVD 爐的氣體、液體、固體或混合物進行預加熱 ● 1.2''O.D x 6''L SS 作為加熱腔小加熱器最高工作溫度：600oC ● 左邊法蘭具有密封和氣體通道的作用。詳細結構請看下圖
加熱區(qū)	● CVD 爐: 400mm ● 小加熱器: 150mm
工作溫度	CVD 爐: ● 最高工作溫度: 1100°C ( < 2 hour ) ● 連續(xù)工作溫度: 200~1000°C ● 最快升溫和降溫速度: 10°C/min 小加熱器: ● 連續(xù)工作溫度: 0~500°C ● 最快升溫和降溫速度: 10°C/min
溫度控制	● CVD 爐和加熱器: ● PID/自整定的數(shù)字控制，具有 30段可控程序 ● 熱偶: K type ● 控溫精度: +/- 1°C ● 可用計算機進行控制，相關硬件和軟件如下（選配）
真空和密封法蘭	● CVD 爐: 右法蘭 ● 水冷避免O型圈融化(水冷機可選配） ● KF25 真空快接 (可與真空泵、波紋管、真空閥等連接） ● 可滑動使客戶操作更簡單：樣品可快速送入和取出 ● 一個石英樣品支架 ( 3"dia. )：與石英擋板滑動法蘭連成一體 ● 左法蘭 (在CVD 爐和小加熱器之間):裝有4個 1/4'' 卡套連結的通氣管 ● 法蘭上有兩個獨立 1/4''口，可單獨將任何氣體通入 CVD 爐 ● 一路 1/4'' 口將預熱氣體通入CVD 爐 ● 一路1/4''口將不加熱的氣體通入CVD 爐(在 CVD 爐內, 通過“T”型結構與加熱氣體匯合。)
額定電壓	單相, 220V AC, 50/60 Hz,
額定功率	最大 3KW (要求20 A 空開)
外形尺寸	1200(L)X450(W)X510(H)mm
重量	100kg
質保期	電器部分保修一年. ( 耗材：爐管、O型圈、加熱元件等不在保修范圍內)
質量認證	CE Certified

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OTF-1200X-4-NW 生長納米線的CVD爐（英文版操作視頻）

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