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GSL-1100X-SPC-16-3 等離子三靶濺射儀

應(yīng)用范圍： GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理（直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜技術(shù)的一種。）設(shè)計(jì)而成的簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。設(shè)備特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)靶，旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。該設(shè)備體積小，節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間，操作簡(jiǎn)單，尤其適合實(shí)驗(yàn)室使用。

產(chǎn)品型號(hào)：GSL-1100X-SPC-16-3

上架時(shí)間：2020-04-16

版本號(hào)：V1.0

A^-A⁺

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GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理（直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng)，使得靶材原子或分子從固體表面射出，在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜技術(shù)的一種。）設(shè)計(jì)而成的簡(jiǎn)單、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備。設(shè)備特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)靶，旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此，適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備，以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。該設(shè)備體積小，節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間，操作簡(jiǎn)單，尤其適合實(shí)驗(yàn)室使用。

功能特點(diǎn)

設(shè)有真空表、濺射電流表，可實(shí)時(shí)監(jiān)控工作狀態(tài)；
通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得好的鍍膜效果；
鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計(jì)，可保證長(zhǎng)期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象；
陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用；
根據(jù)電場(chǎng)中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。

技術(shù)參數(shù)
電源	電壓?jiǎn)蜗郃C220V±10%，頻率50Hz
工作環(huán)境	溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh
氣源	氬氣（99.99%以上純度）
靶直徑	?45mm
真空室	?160mm×120mm
真空度	≤4×10^-2mbar
靶位	3個(gè)
最大電流	50mA
可設(shè)定極限時(shí)間	900s
微型真空氣閥	連接?3mm軟管
極限電壓	1600V DC
機(jī)械泵抽速	2L/s

產(chǎn)品內(nèi)容

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