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GSL-1100X-SPC-16M 磁控濺射鍍膜儀

應用范圍：GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的最簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

產(chǎn)品型號：GSL-1100X-SPC-16M

上架時間：2020-04-16

尺寸：360mm×300mm×380mm

A^-A⁺

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GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極（DC）直流濺射原理設(shè)計而成的最簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設(shè)備，適用于實驗室各種復合膜樣品的制備，以及非導體材料實驗電極的制作。

功能特點

設(shè)有真空表、濺射電流表，可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。
通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥，控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體，以獲得最佳鍍膜效果。
鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計，可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。
陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。
根據(jù)電場中氣體電離特性，采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶，使濺射鍍層更均勻純凈。
濺射頭采用Peltier制冷技術(shù)，可得到高性能、精細顆粒的涂層。
可用水冷濺射頭、水冷載物臺。

技術(shù)參數(shù)
安裝條件	本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。
水	設(shè)備需選配自循環(huán)冷卻水機（加注純凈水或者去離子水）
電	AC220V 50Hz，必須有良好接地
氣	設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（帶減壓閥）
工作臺	尺寸600mm×600mm×700mm，承重50kg以上
通風裝置	不需要
靶	?50mm
真空室	?160mm×120mm
最高真空度	≤4×10-2mbar
最大電流	50mA（100mA）
可設(shè)定最長時間	9999s
微型真空氣閥	連接?3mm軟管
最高電壓	1600V DC
機械泵	2L/s
尺寸	360mm×300mm×380mm
可選配件	金、銦、銀、鉑等各種靶材
標準配件	1	金靶材	1個
	2	進氣針閥	1個
	3	保險絲	2個

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