● 可對粉體材料進(jìn)行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時(shí)粉體材料在振動(dòng)樣品臺(tái)上翻滾，達(dá)到粉體表面均勻包覆
● 設(shè)備小巧可在手套箱內(nèi)使用，可處理樣敏感性材料

220 VAC 50/60Hz

● 1600 VDC /250 W
● 最大電流150 mA .

● 2英寸角度可調(diào)節(jié)濺射頭，帶有水冷夾層
● 一個(gè)手動(dòng)操作擋板，用于保護(hù)靶材
● 濺射頭與樣品臺(tái)距離可調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)范圍為60-100mm
● 設(shè)備中配有一循環(huán)水冷機(jī)（流量16L/min）,用于冷卻濺射頭

● 振動(dòng)樣品臺(tái)安裝在真空腔體底部
● 樣品臺(tái)振動(dòng)頻率可調(diào)節(jié)：6-33Hz
● 樣品臺(tái)直徑為50mm,粉末放置于樣品臺(tái)上，濺射時(shí)粉末振動(dòng)翻轉(zhuǎn)，對粉體表面進(jìn)行包覆
● 建議樣品量: < 500 mg
● 建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um

● 一個(gè)KF25真空接口
● 此系統(tǒng)需要Ar氣瓶（上面安裝減壓閥）（設(shè)備中不包含）
● 真空度：
①1.0E-2 Torr（采用機(jī)械泵），可濺射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶
② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可濺射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金屬靶
● 最大真空度可達(dá)到< 4.0E-6 Torr（分子泵系統(tǒng)抽時(shí)間12小時(shí)，腔體進(jìn)行烘烤）

● 設(shè)備中包含一2英寸Cu靶，靶材厚度2.5mm
● 此設(shè)備可濺射 Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg,等各種金屬靶材
● 可選購射頻等離子磁控濺射儀，用于濺射非導(dǎo)電靶材和碳靶

警告：
●濺射頭與高壓電源相連接，操作時(shí)必須佩帶防護(hù)手套
●濺射前必須確保靶材，濺射頭，基片和樣品臺(tái)清潔，需要用砂紙和乙醇來清洗，Al或是Ni靶每次使用時(shí)都必須清洗和理
●注意：粉末樣品必須干燥和分散

CE認(rèn)證