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OTF-1200X-50-PE-SL 小型滑動PECVD管式爐系統(tǒng)

應用范圍：OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)，滑動式開啟式管式爐系統(tǒng)。此套設備帶有300W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和機械泵組成。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對于有限的經(jīng)費的情況下來進行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。

產(chǎn)品型號：OTF-1200X-50-PE-SL

上架時間：2019-07-03

安裝尺寸：1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)

重量：160Kg

A^-A⁺

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OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)，滑動式開啟式管式爐系統(tǒng)。此套設備帶有300W的等離子射頻電源，一個爐管直徑為50mm的開啟式管式爐（帶有真空法蘭和連接管道）和機械泵組成。因此這套設備模型可以更新為不同的PECVD 系統(tǒng)。對于有限的經(jīng)費的情況下來進行材料探索，此套系統(tǒng)極為理想。

性能指標和基本配置
特點	● 與普通CVD相比可以在低溫環(huán)境下進行氣相沉積實驗 ● 可以通過爐體滑動達到快速升溫和降溫 ● 對于薄膜的應力可以通過射頻電源的頻率來進行控制 ● 通過工藝調節(jié)來控制化學計量 ● 可以沉積各種材料，如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等.
開啟式管式爐	● 輸入電源: 208 – 240V AC,功率： 1.2kW ● 最高工作溫度1200°C，小于60分鐘 ● 爐膛保溫材料采用高純氧化鋁多晶纖維，并且內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層，可以提高加熱效率，反射率及延長儀器的使用壽命（點擊文字了解涂層的詳細參數(shù)） ● 連續(xù)工作溫度1100°C ● 爐管采用高純石英管：50mmOD x 44mmID x 1000mm L ● 可設置30段升降溫程序，并且?guī)в羞^熱和斷偶保護功能 ● 加熱區(qū)長度：200mm 單溫區(qū). 以下圖片顯示加熱區(qū)的溫度曲線圖
等離子體射頻電源	● 輸出功率: 5 -300W 可調穩(wěn)定性± 1% ● 射頻電源頻率: 13.56 MHz 穩(wěn)定性±0.005% ● 最大反向功率: 200W ● 匹配:自動 ● 射頻電源電子輸出端口: 50 Ω, N型半導體, 陰極 ● 噪音: <50 dB. ● 冷卻:風冷 ● 電源: 208-240VAC, 50/60Hz
真空法蘭和接頭	● 真空法蘭采用 304不銹鋼制作. ● 左端法蘭上安裝有 KF-25真空接口，2個KF-25快速卸裝卡箍，KF-25直角閥，KF-25真空波紋管和1/4軟管接頭和不銹鋼針閥
真空泵及水冷機	● AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W ● 2 Liter /S ● 出氣端安裝有油霧過濾器（防止油霧擴散到空氣中，保護環(huán)境和人體健康） ● 真空度: 10-2 torr 可選水冷機：
外形尺寸	1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)
凈重	160kg
應用注意事項	●爐管內氣壓不可高于0.02MPa ●由于氣瓶內部氣壓較高，所以向爐管內通入氣體時，氣瓶上必須安裝減壓閥，建議在本公司選購減壓閥，本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全 ●當爐體溫度高于1000℃時，爐管內不可處于真空狀態(tài)，爐管內的氣壓需和大氣壓相當，保持在常壓狀態(tài) ●進入爐管的氣體流量需小于200SCCM，以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊 ●石英管的長時間使用溫度＜1100℃ ●對于樣品加熱的實驗，不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱，則需時刻關注壓力表的示數(shù)，若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa，必須立刻打開泄氣閥，以防意外發(fā)生（如爐管破裂，法蘭飛出等）
質量認證	CE Certified
保修期	一年保修，終身技術支持。特別提示： 1.耗材部分如加熱元件，石英管，樣品坩堝等不包含在內。 2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內。點擊查看售后服務承諾書。

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